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真空室概述

更新時間:2023-10-24 點擊量:441

 真空系統(tǒng)的核心是真空室,它是針對具體應用量身定做的。它包括應用并將其可靠地與外部分離或防止環(huán)境受內(nèi)部流程影響。不管干燥過程是否需要高真空環(huán)境,等離子體過程都需要在中或高真空環(huán)境下進行,而表面研究也需要在高真空環(huán)境下進行:真空室必須始終機械地承受其與大氣的壓差。

歐盟標準規(guī)定真空容器不受任何基于設計和計算的具體準則的影響。它們不是壓力設備(壓力設備指令2014/68/EU適用于具有內(nèi)部壓力大于500hPa的部件),而且根據(jù)機械指令2006/42/EC它們不屬于機器。然而,它們必須以安全可靠的方式進行設計、計算和生產(chǎn),并在交付前進行測試。

圓柱管、球體、平板或模具配件壁厚的計算,如盤形底,可使用AD-2000手冊進行。AD2000規(guī)定實際上是“壓力容器工作委員會"設計制定的,用于對壓力容器的計算,但也描述負載條件“外部過壓"。在這里,您將發(fā)現(xiàn),例如,計算所需壁厚的方程包括圓柱管的“彈性屈曲"或“塑性變形"等。

由于矩形腔室或類似設計,必須檢查表面偏轉和出現(xiàn)的張力。如果它們過高,必須增加壁厚或對該區(qū)使用進行加固,如通額外的焊接肋板。為此,可以使用采用有限元法(FEM)執(zhí)行機械計算的程序來優(yōu)化腔室設計。除允許的機械應力外,也有必要檢查在負載條件“外部環(huán)境、真空內(nèi)部"下密封面是否互相保持齊平。如果密封面歪曲,可能發(fā)生泄漏,阻礙腔室的使用。

具有冷卻剖面和水冷法蘭的EUV光源室

腔室的基本形狀通常由應用決定。對于腔體,如可能,應該選擇圓柱管,它有利于物料的投放和系統(tǒng)的穩(wěn)定性。對于較小的公稱通徑,平底可密封管側,較大直徑應該通過盤形底來密封,以限制物質投入和腔室的質量。示例:直徑為600mm的腔室需要平底,大約是盤形底壁厚的三倍。具有配件蓋的主法蘭允許進入腔室,門鉸鏈的使用提高了易用性。外部的腔室支腳確保了穩(wěn)定性,環(huán)首螺絲或起重卸扣可實現(xiàn)安全運輸。

如果腔室要進行回火或內(nèi)部熱源導致腔室蓋過熱,必須提供腔室冷卻系統(tǒng)。這可通過焊接冷卻剖面或大面積墊板冷卻或甚至作為雙重容器來實現(xiàn)。

7.61腔體.png真空腔室




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